靶向納米顆?？箟簭姸仍囼灆C是一種用于測定靶向納米顆粒在壓力作用下的力學(xué)性能的專業(yè)設(shè)備。

靶向納米顆?？箟簭姸仍囼灆C工作原理通過施加垂直壓力至顆粒破裂，記錄破裂瞬間的臨界壓力值，直接反映靶向納米顆粒的抗壓強度，為藥物載體設(shè)計提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)?。

?靶向納米顆粒抗壓強度試驗機技術(shù)特點：

?高精度測量?：采用電子傳感器和精密控制系統(tǒng)，分辨率可達±0.5%以內(nèi)，適用于微米級納米顆粒測試?。

?自動化操作?：集成數(shù)據(jù)采集軟件，自動生成壓力-變形曲線、統(tǒng)計大值/小值/平均值，并支持結(jié)果打印?。

?環(huán)境適應(yīng)性?：可調(diào)節(jié)試驗速度（如靜壓接觸樣品前后的獨立速度控制），適應(yīng)不同溫濕度條件下的測試需求?。

靶向納米顆?？箟簭姸仍囼灆C技術(shù)參數(shù)：

1.  產(chǎn)品規(guī)格：   MX-0230

2． 精度等級：   0.5級

3． 額定負荷：   0.5N 1N 5N  10N  20N 50N(任選或多選）

4． 有效測力范圍：0.1/100-100;

5． 試驗力分辨率，負荷±500000碼；內(nèi)外不分檔，且全程分辨率不變。

6. 位移分辨率：0.0001mm

7.  變形分辨率：0.0001mm

8． 有效試驗寬度：120mm

9． 有效試驗空間：300mm

10． 試驗速度:：0.001~300mm/min(任意調(diào))

11.  速度精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

12．位移測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

13．變形測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

14．應(yīng)力控速率范圍： 0.005%～6％FS/S

15．應(yīng)力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±1%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；

16．應(yīng)變控速率范圍： 0.002%～6％FS/S

17．應(yīng)變控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±2%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；

18. 恒力/位移/變形測量范圍：0.5％～100FS

19．恒力/位移/變形測量精度：設(shè)定值＜10％FS時, 為設(shè)定值的±1%以內(nèi)； 設(shè)定值≥10％FS時, 為設(shè)定值的±0.1%以內(nèi)；

20．試臺升降裝置：快/慢兩種速度控制，可點動；

21．試臺安全裝置：電子限位保護

22．試臺返回：手動可以高速度返回試驗初始位置，自動可在試驗結(jié)束后自動返回；

23．試驗定時間自動停車,試驗定變形自動停車,試驗定負荷自動停車

24．超載保護：超過大負荷10%時自動保護；

25. 自動診斷功能，定時對測量系統(tǒng)、驅(qū)動系統(tǒng)進行過載、過壓、過流、超負荷等檢查，出現(xiàn)異常情況立即進行保護

26．電源功率： 200W    

27．主機重量： 40kg

28. 電源電壓:  220V（單相）

29. 主機尺寸：430*315*855mm

30.整機體積：0.6方，重：77KG