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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

18721247059

KLA/科磊
薄膜測(cè)量系統(tǒng)
微組裝系統(tǒng)
Deposition沉積系統(tǒng)
Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)
測(cè)量?jī)x器
Hall Effect
Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)
Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
美國(guó)杜邦Dupont
Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)
Probe station/探針臺(tái)
Reflow Oven /回流焊
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
快速退火爐
生命科學(xué)
PIE scientific
JFP microtechnic
OAI
Unitemp
  • Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī)

    Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī)和蝕刻機(jī)專為研究、開(kāi)發(fā)和小批量生產(chǎn)而量身定制。Tergeo系列桌面等離子清洗機(jī)在表面清洗、活化、有機(jī)污染物去除、粘合增強(qiáng)和...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥100000更新時(shí)間:2025/6/24 16:39:33 對(duì)比
    等離子清洗光刻膠灰化硅晶片清洗pie scientificTergeo
  • TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室

    TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室可用于在高真空下存儲(chǔ)多達(dá) 8 個(gè) TEM 樣品架(極限真空在 10 -7 Torr 范圍內(nèi))。真空度足夠高,可以檢查原位...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥100000更新時(shí)間:2025/6/24 16:23:58 對(duì)比
    等離子清洗光刻膠灰化硅晶片清洗pie scientificTergeo
  • TEM 樣品架真空泵站

    TEM 樣品架真空泵站可在真空條件下存儲(chǔ)多達(dá)六個(gè) TEM 樣品架,以幫助樣品和樣品架放氣,去除水凝結(jié),并保持樣品和支架清潔。它還可用于試樣夾具座的泄漏檢查。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥100000更新時(shí)間:2025/6/24 16:10:47 對(duì)比
    等離子清洗光刻膠灰化硅晶片清洗pie scientificTergeo
  • Ion Source離子源

    關(guān)于Ion Source離子源等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見(jiàn)的離子源類(lèi)型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此,它們被廣泛用于高分辨...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥100000更新時(shí)間:2025/6/24 16:05:59 對(duì)比
    等離子清洗光刻膠灰化硅晶片清洗pie scientificTergeo
  • Gas Mixers氣體混配器

    Gas Mixers氣體混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠(yuǎn)程等離子源

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥100000更新時(shí)間:2025/6/24 15:53:07 對(duì)比
    等離子清洗光刻膠灰化硅晶片清洗pie scientificTergeo
  • 快速退火爐

    AS-One systems快速退火爐是專門(mén)為滿足大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)的需求而研制的,高可靠且性價(jià)比高。該工藝室采用貝殼式設(shè)計(jì),可*進(jìn)入底板,方便裝載和...

    型號(hào): AS-One sy... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/12 15:52:42 對(duì)比
    快速退火爐退火爐AS-One systems快速退火爐
  • 高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    ECOPIA公司的HMS系列高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,霍爾效應(yīng)系統(tǒng),霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)主要由恒電流源、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器、低溫(77K)測(cè)量系統(tǒng)及磁場(chǎng)強(qiáng)度輸入系統(tǒng)組成...

    型號(hào): HMS-3300 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:10:44 對(duì)比
    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
  • 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,霍爾效應(yīng)系統(tǒng)主要用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類(lèi)型等重要參數(shù),而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的,...

    型號(hào): HMS-3000 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:10:03 對(duì)比
    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)系統(tǒng)
  • 薄膜沉積系統(tǒng)

    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...

    型號(hào): Trion Ori... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:09:19 對(duì)比
    薄膜沉積薄膜沉積系統(tǒng)
  • 等離子刻蝕ICP

    等離子刻蝕ICP基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而隔絕外部濕氣,防...

    型號(hào): Minilock-... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:08:53 對(duì)比
    等離子蝕刻等離子蝕刻系統(tǒng)
  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī)和紫外掩膜曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具,采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì),使OAI成為MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的ling ...

    型號(hào): Model 200 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:07:32 對(duì)比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)紫外掩膜曝光系統(tǒng)
  • 半自動(dòng)引線鍵合機(jī),焊線機(jī) (Wire Bonder)

    全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā),產(chǎn)品原型試產(chǎn),產(chǎn)品評(píng)估,產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下,同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶。

    型號(hào): WB-200 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:06:28 對(duì)比
    鍵合機(jī)半自動(dòng)鍵合機(jī)Wire Bonder引線鍵合機(jī)
  • KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀

    KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀,方塊電阻測(cè)試儀可對(duì)金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導(dǎo)和薄膜電導(dǎo)率進(jìn)行測(cè)繪。R54是方塊電阻測(cè)量...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:05:47 對(duì)比
    R50方塊電阻測(cè)試儀R50系列四探針電阻測(cè)試儀電阻測(cè)試儀方塊電阻測(cè)試四探針電阻測(cè)試
  • KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀

    KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀為生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)節(jié)提供了從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量功能。該系統(tǒng)支持對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行二維...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:05:03 對(duì)比
    kla探針式輪廓儀kla p-7p-7臺(tái)階儀
  • KLA iMicro納米壓痕儀

    KLA iMicro納米壓痕儀可輕松測(cè)量硬質(zhì)涂層、薄膜和小尺寸材料等。其準(zhǔn)確、靈活,并且用戶友好,可以提供壓痕、硬度測(cè)試、劃痕和納米級(jí)萬(wàn)能試驗(yàn)等多種納米力學(xué)測(cè)試...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:40 對(duì)比
    KLA iMicro納米壓痕儀納米壓痕儀納米劃痕儀納米劃痕測(cè)試納米壓痕測(cè)量
  • KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)先進(jìn)的集成式表面和光致發(fā)光(PL)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)可以捕獲各種關(guān)鍵襯底和外延缺陷。采用統(tǒng)計(jì)制程控制(SP...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:22 對(duì)比
    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓表面缺陷檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)晶圓檢測(cè)
  • KLA Candela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)第二代集成式光致發(fā)光和表面檢測(cè)系統(tǒng),設(shè)計(jì)用于對(duì)碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進(jìn)行高級(jí)表征。采用統(tǒng)計(jì)制...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:12 對(duì)比
    KLACandela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓表面檢測(cè)晶圓缺陷光學(xué)檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)
  • KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)它使用多通道檢測(cè)和基于規(guī)則的缺陷分類(lèi),對(duì)不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:58 對(duì)比
    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓缺陷檢測(cè)半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)
  • 薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)x采用自動(dòng)化R-Theta平臺(tái),支持標(biāo)準(zhǔn)和定制化樣品夾盤(pán),最大樣品直徑達(dá)450毫米,能高效測(cè)繪薄膜厚度。該設(shè)備適...

    型號(hào): KLA Filme... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:36 對(duì)比
    KLA Filmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)x白光干涉測(cè)厚儀
  • 薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

    薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng):在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝...

    型號(hào): Toho FLX-... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:07 對(duì)比
    薄膜測(cè)試薄膜應(yīng)力日本薄膜應(yīng)力薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)

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