KLA Zeta™-20光学轮廓仪是一款非接触式3D显微镜及表面形貌测量系统。该 3D 光学量测系统由 ZDot 技术及多模式光学组件提供支持，可支持各种样品测量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙纹理，以及从纳米到厘米范围的台阶高度。

KLA Zeta™-20光学轮廓仪集六种不同的光学量测技术于一身，是一款可灵活配置且易于使用的系统。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法，膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-20 也是一款显微镜，可用于抽样检查或缺陷的自动检测。Zeta-20通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能来支持研发 (R&D) 和生产环境。

特征

• 配合ZDot及多模式光学组件，光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用

• 用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜

• ZDot: 同时收集高分辨率的3D扫描扫描信息和样品表面真彩色图像

• ZXI：采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪 ZIC：亚纳米级粗糙度表面的定量3D数据的干涉对比

• ZIC：图像对比度增强，可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析

• ZSI：z方向高分辨率

• 图像的剪切干涉测量法

• ZFT：通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率

• AOI：自动光学检测，可量化样品缺陷

• 生产能力：具有多点量测和图形识别功能的全自动测量

• 台阶高度：从纳米级到毫米级的3D 台阶高度

• 表面：光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波纹度测试

• 翘曲：2D或3D翘曲

• 应力：2D 或3D 薄膜应力

• 薄膜厚度：透明薄膜厚度由 30nm 至 100µm 不等

• 缺陷检测：捕获大于 1µm 的缺陷

• 缺陷表征：KLARF文件可用于寻找缺陷，以确定划痕缺陷位置，测量缺陷3D表面形貌

行业

• 太阳能：光伏太阳能电池

• 半导体和化合物半导体

• 半导体WLCSP（晶圆级芯片封装）

• 半导体FOWLP（扇出晶圆级封装）

• PCB（印刷电路板）和柔性印刷电路板

• MEMS：微机电系统

• 医疗器械和微流体器件

• 数据存储

• 大学、研究实验室和研究所