当前位置:德国韦氏纳米系统有限公司>>紫外掩膜对准曝光系统>>紫外掩膜对准曝光系统>> Model 659光刻曝光分析仪
产地类别 | 进口 | 价格区间 | 5万-10万 |
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应用领域 | 电子/电池 |
45年来,OAI始终是紫外能量测试仪器领域的*应用商,其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠,精确校准控制。
Model 659是一款手持式紫外功率计,配有触摸屏和 USB 接口。通过使用特殊探头(365nm、400nm、420nm 和 436nm),可以测量主要用于步进应用的宽范围波长。
● 多达400个曝光参数
● 以太网和USB接口,用于下载记录的测量值
● 强度范围达7500mW/cm2
● 强度分辨率:0.01mW/cm2
● 探头波长:365nm、400nm、420nm、436nm
Model 659 型曝光分析仪,与晶圆步进光刻机配合使用,专为Ultratech Stepper等高强度光刻设备而设计(读数高达7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最长9999秒)。可选择探头光谱响应:365nm、400nm、420nm或436nm.
OAI拥有完整的认证校准实验室,以确保仪器的性能,质量,和可靠性。Model 659 可追溯至NIST标准。
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