Nova Nano FEI Nova Nano SEM 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡該產(chǎn)品是世界上*款可以對(duì)有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（FEG-SEM）。作為FEI公司市場(chǎng)的眾多設(shè)備中的一員，Nova NanoSEM為用戶在納米研究、開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)的相關(guān)工作提供了更多的可能。

 
        Nova Nano FEI Nova Nano SEM 的出現(xiàn)為那些非導(dǎo)電的以及有污染的納米材料研究和*們帶來(lái)了新的表征手段。與NanoSEM同時(shí)發(fā)布的FEI Helix探測(cè)技術(shù)將浸入式透鏡和低真空掃描電鏡兩種技術(shù)成功地組合在一起，這在場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的歷*還是*次。在給用戶帶來(lái)超高分辨率的同時(shí)，還能在低真空環(huán)境下有效地抑制非導(dǎo)電材料的電荷積累效應(yīng)。Nova NanoSEM的這種新技術(shù)還可以有效地抑制由前道樣品處理過(guò)程所引起的電子束誘導(dǎo)污染。 

除了低真空條件下二次電子和背散射電子成像以外，Nova NanoSEM還具有浸入式透鏡的技術(shù)和FEI所*的使用電子束進(jìn)行納米結(jié)構(gòu)沉積的氣體化學(xué)技術(shù)，所有的這些特點(diǎn)使之成為納米結(jié)構(gòu)與納米材料Nova Nano FEI Nova Nano SEM 是研究領(lǐng)域中zui*、的掃描電鏡

技術(shù)參數(shù)
1. 分辨率 
高真空模式 1.0nm @ 15kV 
1.8nm @ 1kV 
0.8nm @ 30kV(STEM探測(cè)器) 
低真空模式 1.5nm @ 10kV(Helix探測(cè)器) 
1.8nm @ 3kV(Helix探測(cè)器) 
2. 加速電壓 200V - 30kV,連續(xù)可調(diào) 
3. 電子束流范圍 0.3pA - 100nA, 連續(xù)可調(diào) 
4. 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 
Nova NanoSEM 230: X=Y=50mm 
Nova NanoSEM 430: X=Y=100mm 
Nova NanoSEM 630: X=Y=150mm
 

主要特點(diǎn)
1. 超高分辨率Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍 
2. *的超高分辨率低真空?qǐng)霭l(fā)射掃描電鏡. 具有高真空和低真空(<200Pa)兩種真空模式. 
3. 對(duì)容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進(jìn)行觀察和分析 
4. *無(wú)油真空系統(tǒng) 
5. 可選配電子束曝光、電子束誘導(dǎo)沉積等納米設(shè)計(jì)/加工功能 
6. FEI公司基于Windows XP的-xT用戶界面