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泰州巨納新能源有限公司

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CVD銅基多層氮化硼薄膜返回列表頁

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參考價: ￥ 7579.65

訂貨量: ≥1 片

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌2D Semiconductors

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地泰州市

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更新時間：2024-06-03 16:46:08瀏覽次數(shù)：1357次

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產(chǎn)品簡介

供貨周期	現(xiàn)貨	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,能源,綜合

Multilayer h-BN (Boron Nitride) film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct band gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms.

詳情介紹

Multilayer h-BN (Boron Nitride) film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct band gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms. Our h-BN CVD process has been adopted in order that defect density has been kept low (~1E10-1E11 cm-2) and single domain sizes have been increased to reduce 1D grain boudary defect concentrations. Multilayer h-BN sheets measure ~5cm x 5cm or ~2x2 inches in size.

Properties of h-BN