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参考价	面议

全反射X荧光光谱仪

价格区间	100万-150万	行业专用类型	通用
仪器种类	台式/落地式	应用领域	综合

TXRF全反射X荧光光谱仪分析原理是基于X荧光能谱法，但与X射线能谱形成对比的是，传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品，而TXRF采用毫弧度的临界角（接近于零度角）入射。由于采用此种近于切线方向的入射角，原级X光束几乎可以全部被反射，照射在样品表面后，可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生，同时减小了载体的背景和噪声，亦可减少样品使用量。

详细介绍

　　TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法，但与X射线能谱形成对比的是，传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品，而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角，原级X光束几乎可以全部被反射，照射在样品表面后，可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生，同时减小了载体的背景和噪声，亦可减少样品使用量。

　　TX2000 将全反射和传统的能量色散集成在同一台仪器上，创新光学编码器的步进电机，角度测量，软件控制Mo/W靶可自由切换，采用高分辨、低背景的帕尔贴控温硅漂移检测器。

　　全反射X荧光光谱仪应用范围

　　TX2000 可检测从钠Na到钚Pu所有元素含量，可进行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg)，广泛的应用在环境分析(水、灰尘、沉积物、大气悬浮物)，制药分析(生物体液和组织样品中的有害元素)，法医学(微小证据分析)，化学纯度分析(酸、碱、盐、溶剂、水、超纯试剂)，油品分析(原油、轻质油、燃料油)，染料分析(墨水、油漆、粉末)，半导体材料分析(挥发相分解)，核材料工业(放射性元素分析)。

　　全反射X荧光光谱仪主要特点

　　1、单内标校正，有效简化了定量分析，无基体影响；

　　2、对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析；

　　3、多元素实时分析，可进行痕量和超痕量分析；

　　4、不受样品的类型和不同应用需求影响；

　　5、*的液体或固体样品的微量分析，分析所需样品量小；

　　6、优良的检出限水平，元素分析范围从钠覆盖到钚；

　　7、动态线性范围；

　　8、无需任何化学前处理，无记忆效应；

　　9、非破坏性分析，运行成本低廉。

　　根据分光系统的不同，XRF光谱仪主要有波长色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)两种，二者结构示意如下图：