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SemiChem 在线浓度监测仪
Entegris在设计和生产用于半导体制造工艺中的化学机械平坦化（CMP）浆料和配方清洁化学品的高精度分析仪器的有丰富的经验。我们的技术旨在确保复杂混合化学品的精确一致性，并在 CMP和配方清洁工艺中实现高产量。
我们的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在线浓度监测仪）是集自动取样、分析和报告关键过程的定量化学浓度的化学监测系统。全面的在线化学监测可实时校正浆料成分，从而稳定控制工艺生产条件。该系统可提供分类化学浓度数据。当立即显现时，可以快速纠正可能对产品质量产生负面影响的变化，有助于满足更高产品产量的要求。
应用领域
在全球范围内，我们安装了近3000套SemiChem APM系统，用于控制金属 CMP 浓度。它是控制CMP过氧化物的可靠的中心工具，并被证明在微电子环境中的所有湿化学应用中都具有较好的性能，包括：
·铜，钨，阻挡层和金属CMP
·制定清洁
·DSP+
·湿法蚀刻，氮化物蚀刻
·平底蚀刻，食人鱼蚀刻
·高频
·废水
功能与特点
| 经验证的标准电化学技术 | 提供行业精确的监控，以保证过程化学成分和完整性 |
| 提供化学浓度数据，使浆料/化学分配系统能够提供准确的化学浓度 | |
| 在线的，接近实时检测的系统 | 检测挥发性化学物质的工艺偏差，防止产品质量损坏 |
| 将实验室技术过渡到在线，实现快速准确的在线控制 | |
| 坚固耐用的工业设计 | 维持至少8500小时平均工作时间 |
| 可经受严峻的工业环境 |
规格
| 分析方法 | 电位测定法，标准加成法，光度测定法 |
| 电位测量的准确性* | 显示值的±0.2% |
| 标准添加的准确性* | 显示值的±2.0% |
| 电位测量精度* | ±0.2%相对误差 |
| 标准添加精度* | ±2.0%相对误差 |
| 测量时间 | >5分钟/次（取决于应用程序） |
| 校准间隔 | 启动时** |
| 样品消耗 | <5 mL/次 |
| 进样量 | 0.05-5 mL（取决于应用） |
| 进样温度 | 最高93°C（200°F） |
| 耗水量 | <1000 mL/分析 |
| 样品进样/排样 | <207 kPa（30 psi），0.5 L/min |
| 1/4" OD扩口接头，1" FPT安全壳联轴器 | |
| 去离子水 | 138至276 kPa（20至40 psi） |
| 2.0升/分钟 | |
| 外径 1/4" 扩口接头 | |
| CDA | 414-552 kPa（60-80 psi） |
| 1/4" 外径快速接头 | |
| 排水 | 工艺：3/4“NPT重力排水管机柜：1/2“NPT重力 |
| 电源 | 110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A现场可切换 |
| 废气 | 外径1 7/8" @ 17 CFM |
| 标准功能 | 可选功能 |
·四个4-20 mA模拟输出 ·八个可编程继电器 ·以太网和RS232串行 ·彩色触摸屏 ·单个测量单元 ·综合试剂储存 ·单个采样点 ·一个5 mL数字滴定管 ·多传感器输入 | ·多个采样点 ·额外的5 mL数字滴定管 ·附加传感器 ·安全联锁装置 ·试剂微量检测 |
尺寸
