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一、設備用途及工藝條件簡述

1.1、設備用途：粉體材料在氧化性氣氛中的連續(xù)性燒成。

1.2、裝料方式：將物料裝于移進板上或坩堝內(nèi)，再將移進板置于陶瓷棍棒上，由陶瓷輥棒傳動移進板在窯內(nèi)移動，雙排單層放置。

1.3、窯內(nèi)氣氛：空氣。物料在燒成過程中會產(chǎn)生大量水蒸氣及少量廢氣，廢氣中主要成分為氯化銨。

二、主要技術參數(shù)及要求

2.1、 額定溫度：                       900oC

2.2、 常用溫度：                       850oC

2.3、 額定功率：                       350 KW

2.4、 保溫功率：                       230 KW（根據(jù)產(chǎn)品而定）

2.5、 供電電源：                       380V

2.6、 加熱區(qū)數(shù)：                       16區(qū)

2.7、 控溫點數(shù)：                       25點

2.8、 加熱方式：                       上下加熱，恒溫區(qū)為上下分別控溫

2.9、 加熱元件：                       等直徑硅碳棒

2.10、控溫精度：                       ≤±1oC

2.11、截面溫差（恒溫段）：              ≤±10oC

2.12  爐膛尺寸（L×W×H）：　　 　　  　34000×780×220mm

2.13、坩堝尺寸（L×W×H）：             320×320×150mm(230個)

2.14、移進板  （L×W×H）：             340×340×15mm（230塊）

2.15、工作區(qū)尺寸（L×W×H）：      　   34000×680×180mm

2.16、移進板尺寸（L×W×H）：　 　      340×340×12mm(需方自備)

2.17、窯體外形尺寸約（L×W×H）：　   　37500×2100×1600mm

2.18、傳送速度：　　　　　　　　　 　  800—1500 mm/h  

2.19、常用速度：                       1000mm/h

2.20、調(diào)速方式：                       變頻無極調(diào)速（常用30Hz）