| 应用领域 | 环保,食品/农产品,化工,生物产业,电子/电池 |
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合肥2吨半导体超纯水设备厂家需结合RO+EDI+抛光混床+UV工艺，选用PVDF/316L材质，配套全自动控制系统，确保水质符合SEMI F57标准。
合肥2吨半导体超纯水设备厂家方案
一、核心工艺设计
预处理系统
多介质过滤器：去除悬浮物、胶体、铁锈等杂质（精度≥5μm）。
活性炭过滤器：吸附余氯、有机物，防止RO膜氧化。
软化器（可?。?/span>：降低钙镁离子浓度，防止RO结垢（原水硬度较高时必?。?。
反渗透（RO）系统
高压泵：316L不锈钢材质，提供RO膜运行压力（1.0-1.5MPa）。
RO膜组：陶氏BW30-400IG DRY或同类膜，脱盐率≥99%，产水2吨/小时。
回收率：60-75%（根据原水TDS调整）。
后处理精制单元
电去离子（EDI）装置：连续去除残余离子，出水电阻率≥15MΩ·cm。
抛光混床：核级混床树脂，进一步降低电导率至≥18.2MΩ·cm。
紫外线杀菌器：254nm波长，灭杀微生物，防止储水箱二次污染。
TOC去除装置（可?。篣V氧化或活性炭吸附，控制总有机碳＜5ppb。
储存与分配系统
PVDF/316L不锈钢储水箱：带氮气?；せ蜓废低?，避免CO?吸收。
超纯水分配管道：316L不锈钢+UF过滤器，多点监测电阻率（＞18.2MΩ·cm）。
二、设备技术参数
| 组件 | 规格与要求 |
|---|---|
| RO膜组 | 4-6支8英寸陶氏膜，排列方式：一级一段 |
| EDI模块 | 2-4组，电流可调，自动再生 |
| 抛光混床 | 核级树脂，填充量≥50L，可重复再生＜10次 |
| TOC控制 | UV氧化（254nm）+ TOC在线监测（检测限＜5ppb） |
| 控制系统 | PLC全自动+触摸屏，实时监测电导率、TOC、温度、压力，支持数据记录与远程监控 |
| 材质与合规性 | PVDF/316L不锈钢管道，符合SEMI F57、ISO 9001、ASME BPE标准 |
三、出水水质标准
电阻率：≥18.2MΩ·cm（25°C）
颗粒物：＜10ppt（＞0.2μm）
微生物：＜1CFU/mL（UV+EDI抑制生物膜）
金属离子：Na?＜10ppb，Fe?3＜1ppb，Cu2?＜0.1ppb
TOC：＜5ppb（可?。?0ppb）
四·合规与认证
遵循标准：
国际：SEMI F57（半导体超纯水标准）、ASTM D5127（TOC检测）5；
中国：电子级超纯水国家标准（GB/T 11446.1）。
验证文件：
DQ（设计确认）、IQ（安装确认）、OQ（运行确认）、PQ（性能确认）45。
五、维护要点
日常维护：
检查预处理压差，定期更换滤芯（每3-6个月）；
记录RO进水/出水电导率、EDI电流、TOC值等参数15。
化学清洗：
RO膜每6-12个月酸/碱洗一次（视原水水质）45。
消毒管理：
储水箱每周臭氧循环消毒，管道每月冲洗
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