高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

真空室结构:方形前开门

真空室尺寸:p500x500x500mm

极限真空度:≤3.0E-5Pa

沉积源:永磁靶4套，2英寸

样品尺寸，温度:p4英寸，1片，最高800°C

占地面积(长x宽x高):约2米x1.7米x2米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性:≤3%

特色参数:

产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质?；け∧ず妥笆伪∧さ?，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。

设备特点：

本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。
设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目