高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450

真空室结构:圆筒形前开门

真空室尺寸:φ450x400mm

极限真空度:≤6.6E-6Pa

沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以向上溅射或向下溅射。

样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，最高800C

占地面积(长x宽x高):约1米x1.8米x2米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性:≤3%

特色参数:

产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质?；け∧ず妥笆伪∧さ?，工艺性能稳定、?？榛峁?，采用行业的软件控制系统。

设备用途：
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

用户评价：
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关，功能齐全，性能稳定，自动化程度高，抽气极速平稳，电源稳定可靠，气路流畅密闭，镀膜质量平整光滑，均匀致密，结合力强，且系统操控智能，便捷，可满足科研实验与生产制造的需求，是一款优秀的磁控溅射镀膜系统?！本┦┘际跹芯吭河邢薰?李老师