在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻配套試劑的作用至關(guān)重要，它們是確保光刻工藝順利進(jìn)行的關(guān)鍵因素。光刻配套試劑  光刻膠顯影液 去膠液 增粘劑等材料與光刻膠的協(xié)同作用，不僅能夠精確地形成電路圖案，還能為后續(xù)工藝步驟創(chuàng)造良好的條件。以下是托托科技提供的全面光刻配套試劑的產(chǎn)品介紹，這些試劑在提高光刻工藝精度方面發(fā)揮著重要作用。

一、顯影液系列

RZX-3038 顯影液

型號(hào)：RZX-3038

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：RZX-3038是一種國(guó)產(chǎn)通用型光刻膠顯影液，具有廣泛的兼容性，能夠與S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多種光刻膠系列和型號(hào)配合，確保顯影過(guò)程的精確性和一致性。

MF-319顯影液

型號(hào)：MF-319

規(guī)格：5L/瓶

產(chǎn)品介紹：MF-319是一種進(jìn)口光刻膠顯影液，專(zhuān)為S1800 G2系列光刻膠量身定制，保證光刻圖案的清晰度和準(zhǔn)確性。

AZ 400K顯影液

型號(hào)：AZ 400K

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：AZ 400K顯影液適用于AZ等多種光刻膠系列，其優(yōu)異的性能和穩(wěn)定性，使得它在半導(dǎo)體制造行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。

AZ 300 MIF Developer顯影液

型號(hào)：AZ 300 MIF Developer

規(guī)格：20L/桶

產(chǎn)品介紹：AZ 300 MIF Developer是一種大容量顯影液，適用于顯影AZ等多種光刻膠系列，適用于大規(guī)模生產(chǎn)，有效降低成本。

PGMEA顯影液

型號(hào)：PGMEA

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：PGMEA是一種國(guó)產(chǎn)SU8光刻膠顯影液，專(zhuān)為SU8系列光刻膠設(shè)計(jì)，能夠提供快速且均勻的顯影效果。

SU-8 Developer顯影液

型號(hào)：SU-8 Developer

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：SU-8 Developer是一種進(jìn)口顯影液，專(zhuān)用于SU-8系列產(chǎn)品，能夠確保復(fù)雜圖案的顯影質(zhì)量，適用于高精度半導(dǎo)體制造。

二、去膠液系列

NMP去膠液

型號(hào)：NMP

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：NMP是一種國(guó)產(chǎn)通用型去膠液，適用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等多種光刻膠，能夠有效去除殘留光刻膠，為后續(xù)工藝步驟做好準(zhǔn)備。

AZ 400T STRIPPER去膠液

型號(hào)：AZ 400T STRIPPER

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：AZ 400T STRIPPER是一種進(jìn)口去膠液，專(zhuān)為AZ系列產(chǎn)品設(shè)計(jì)，能夠迅速地去除光刻膠，保護(hù)襯底不受損害。

remover 1165去膠液

型號(hào)：remover 1165

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：remover 1165適用于S1800 G2、SPR 220系列、PM等多種光刻膠系列，其高效能和環(huán)保性，使其成為去膠工藝的理想選擇。

Remover PG去膠液

型號(hào)：Remover PG

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：Remover PG是一種進(jìn)口去膠液，適用于SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等多個(gè)系列產(chǎn)品，去膠不留殘膠，適用于敏感襯底。

三、增粘劑

HMDS光刻膠增粘劑

型號(hào)：HMDS

規(guī)格：1L/瓶；加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：HMDS是一種光刻膠增粘劑，通過(guò)旋涂或熏蒸方法使用，有效改善光刻膠與襯底（如玻璃、石英等）的粘附性，提高光刻工藝的成功率。

托托科技的光刻配套試劑  光刻膠顯影液 去膠液 增粘劑，涵蓋了光刻工藝的各個(gè)環(huán)節(jié)，確保了半導(dǎo)體制造過(guò)程的順利進(jìn)行。我們的產(chǎn)品不僅為半導(dǎo)體行業(yè)提供了高品質(zhì)的解決方案，也為印刷行業(yè)帶來(lái)了創(chuàng)新的工藝改進(jìn)。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和國(guó)家政策的支持，托托科技將繼續(xù)致力于研發(fā)和優(yōu)化光刻配套試劑，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展貢獻(xiàn)力量。