G4 PHOENIX DH TDS热脱附质谱法
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 碧彦（上海）仪器技术有限公司
- 品牌 Bruker/布鲁克
- 型号 G4 PHOENIX DH
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/1/14 8:29:00
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| 价格区间 | 面议 | 仪器种类 | 氢分析仪 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 建材/家具,电子/电池,钢铁/金属,汽车及零部件 |
为什么我需要可扩散的氢气分析？
氢诱发开裂和脆化是一种危险现象。虽然高强度钢和氧铜级特别容易受到氢脆化的影响，但可扩散氢的吸收会影响更多的金属，但在很大程度上取决于环境和工艺条件，如环境湿度。在每个机械、热和电制造步骤中引入氢气都有风险，尤其是在焊接和焊接过程中。
TDS热脱附质谱法应用可以在30分钟内产生结果，而传统方法需要多天时间。因此这是允许可行的可扩散氢气预焊接测试的方法。这允许用户优化其流程，以避免代价高昂的故障，然后再完成。
热脱附质谱(TDS)是一种表面分析技术，可以通过加热样品来脱附氢气，并通过质谱仪等仪器来检测和分析脱附的氢气。在加热过程中，样品中的氢气会逐渐从钢中脱附出来，并被质谱仪检测到。根据氢气脱附的温度和峰值面积，可以计算出钢中的氢含量。
TDS技术具有灵敏度高、分辨率好、分析速度快等优点，因此在材料科学、化学、半导体工业等领域得到了广泛应用。在钢铁行业中，TDS技术可以用来检测钢中的氢含量，从而评估钢材的质量。此外，TDS技术还可以用于研究材料的吸附性能、催化反应机理等方面。
TDS技术的基本原理是将样品置于真空室中，通过加热使样品表面的气体分子脱附然后使用质谱仪对脱附的气体进行分析。在TDS实验中，需要控制加热温度和时间，以获得准确的结果。同时，还需要选择合适的质谱仪和分析条件，以确保能够准确地检测到样品中的氢气。
在实际应用中，TDS技术通常与其他分析技术结合使用，以提高分析的准确性和可性。例如，可以将TDS技术与红外光谱、拉曼光谱等技术相结合，以获取更全面的信息。此外还可以将TDS技术应用于在线监测系统中，实现实时监测和控制。
一、G4 PHOENIX DH TDS热脱附质谱法主要优势：
1、可选的热电偶套件，用于直接样品温度读数；
2、附加电阻加热炉，可提供高达1100℃的高温；
3、外部采样罐的可选接口，用于涵盖ISO 3690的GC方法；
4、具有10种不同体积的适合于整个分析范围的自动和可靠的气体校准单元；
5、长期稳定的热导检测器（TCD），带专用参考气体通道，热量交换器和ng/g分析功能；
6、红外（IR）低热质量的炉子，用于精确控制温度， 可编程快速加热（和冷却）高达900℃，接受大样品；
7、G4 带四极质谱仪 改进了检测 限制超过一个数量级，用于评估超低可扩散氢浓度或同位素及研究 钢中不同的氢陷阱。
二、技术参数
二、技术参数
| 规格 | 优点 | |
| 探测器 | ||
| G4 PHOENIX | 带参考通道和可调增益放大器的导热探测器 | 可靠、可调节的范围，无漂移 |
| G4 PHOENIX 质谱 | 质谱仪，m/z 范围 1-100 amu，单四极，优化的 EI 源和通道探测器 | 特殊的质谱性能 |
| 炉 | ||
| 红外加热 | IR炉uop至900℃，即石英管30mm,水冷,光电热电偶套件,用于直接样品温度读数 | 精确的温度控制，灵活的加热程序，接受大样本 |
| 电阻加热（选件） | 附加电阻加热炉高达 1100 oC，即石英管 18 mm | 多相双相钢中的残余氢气 |
| 载气 | 氮气 99.995% 纯度,最小2巴(±50 psi),99.9990% 纯度,用于微量分析 | 使用再生分子筛进行预清洗 |
| 校准气体 | 使用纯气体（H2 或 He）或经过认证的混合物（每个组件纯度为 99.999%），可自动气体剂量校准系统，可处理 10 个单独体积 | 简单、精确的气体校准，无需标准，可追溯至 p、T、V |
| 冷却水 | 1 升/分钟 = 3 巴（44 psi） | 快速冷却,标准自来水兼容,节水设计与停水阀,冷水机组也是可能的 |
| 电源 | ||
| G4 PHOENIX | 230 VAC (± 10 %), 50-60 Hz, 2200 VA | 行业标准电源和电流配置 |
| 质谱仪 | 230 VAC, 50-60 Hz, 250 VA | |
| 尺寸和重量 | ||
| G4 PHOENIX | 630 x 700 x 670 mm (宽 x 深 x 高), 重量 ~ 50 kg | |
| 质谱仪 | 630 x 640 x 480 mm (宽 x 深 x 高), 重量 ~ 60 kg | |
尽管TDS技术具有许多优点，但也存在一些局限性。首先，TDS技术只能检测到样品表面的气体分子，无法直接测量样品内部的气体含量。其次，TDS技术对于不同种类的气体分子的灵敏度不同，因此需要针对具体的应用进行优化。此外，TDS技术的操作过程较为复杂，需要一定的专业知识和技能。
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