Veeco 离子束蚀刻的优势

离子束蚀刻是一种成熟的技术，可用于在大批量生产环境中制造先进的薄膜器件。然而，研发和中试线生产环境都在不断创新下一代MEMS、磁传感器和数据存储设备，这些设备也依赖于具有行业最佳性能规格的高性能蚀刻系统。Veeco 目前在全球安装了 300 多个离子束蚀刻系统，支持薄膜器件应用。

新型 Lancer IBE 系统

新型 Lancer™ 离子束蚀刻 （IBE） 系统专为开发和生产智能手机、自动驾驶汽车和其他可实现连接性、功能性和移动性的“物联网”设备中的下一代电子设备而设计。

Lancer系统提供了在研发和生产环境中可以达到的设备质量，包括：

• 的系统性能和功能

• 与前几代 IBE 相比，单模块配置减少了占用空间

• 经过生产验证的技术，目前拥有庞大的安装基础

• 拥有专用流程和技术专业知识的大型应用数据库

• Veeco 销售和服务支持基础设施确保客户满意度