2021年4月21日，上?！蒲Х窳煊虻氖澜缛墒蓝萍迹ㄒ韵录虺疲喝桑┬纪瞥鯤elios 5 EXL晶圆双束透射电子显微镜，旨在满足半导体厂商随着规?；欢显黾拥难妨恳约跋嘤Φ姆治鲂枨?。这款产品拥有的机器学习和*的自动化能力，可提供精确的样品制备，以支持5纳米以下节点技术和全环绕栅极半导体制程以及良率提高。

随着半导体制程向着更小、更复杂的方向发展，半导体厂商需要更多可复现的、大批量的透射电子显微镜（以下简称：TEM）分析结果。业界对原子级分辨率数据的需求不断增长，为失效分析实验室带来全新的挑战。全环绕栅极技术（GAA）的进步提升了对于界面、薄膜以及纳米级以下分辨率可测量截面更多的需求，这也为大批量TEM分析的升级增加了难度。

通过机器学习和闭环反馈进行极点配置，Helios 5 EXL能提供精确切割，使得操作者在进行高难度的样品制备时也能始终保持高品质产出。与现有的解决方案相比，改进的自动化技术优化了机器与人工操作的比例，旨在样品产出和技术资源生产率。

“半导体实验室正面临着巨大的压力，在不增加成本的情况下，他们需要更快地提供TEM分析数据，以支持制程监控并提升学习曲线，” 赛默飞半导体事业部副总裁Glyn Davies说道，“Helios 5 EXL可以通过可扩展的、可复现的和高精度的TEM样品制备来应对这一挑战?！?/span>

Helios 5 EXL在保持晶圆结构的完整度上，可以帮助半导体厂商从每个晶圆中提取比现有解决方案更多的数据，以提高TEM分析成功率。

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