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CPCP3/plus 粉体等离子清洗机

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企业历程 :

◆ 2006 年,在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。

◆ 2008 年, 自主研发生产石墨电热板以来, 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备, 从此走上研发生产专业化道路。

◆ 2010 年,掌握了等离子核心技术,自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。

◆ 2014 年, 在中国注册成立华仪行(北京) 科技有限公司, 正式进入中国市场, 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。

◆ 2015 年,自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。

◆ 2017 年,自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。

◆ 2018 年,在中国成注册立赛福仪器承德有限公司,将研发制造业务全部移至中国。

◆ 2019 年,电镜专用远程等离子清洗机研发成功。

◆ 2021 年,自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品,完善了等离子产品线。

◆ 2023 年,科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。

 

公司专注材料表面处理技术:

◆ 改性(等离子清洗机、紫外臭氧清洗机)                   ◆ 去胶(等离子去胶机)

◆ 蚀刻(等离子刻蚀机)                                              ◆ 涂层(等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机)

企业愿景:

致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。

企业使命:

CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人,同呼吸,共命运,共同成长,共同发展,共同成就梦想!

 

半导体领域仪器设备:等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机等。

产地类别 国产 应用领域 医疗卫生,环保,化工,地矿,电子/电池

CIF 推出的专为处理粉体如粉末、颗粒状材料样品而设计的粉体专 用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材 料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。同时可实现 常规等离子清洗。

粉体等离子清洗机原理:

粉体等离子清洗机就是在常规等离子清洗机真空腔内,放置可旋转并带搅 拌的样品瓶,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离 子体,作用在样品瓶内粉体样品上,通过等离子体轰击被清洗粉体材料表面,  改变材料表面性质,优化材料表面性能。等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理、化学性质,在保持粉体材料原有性能的前提下,赋予其表面 新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在 介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。






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