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產(chǎn)品介紹
HET-1型二維轉(zhuǎn)移平臺(tái)適用于石墨烯、各類過(guò)渡金屬化合物、黑磷等多種單層及其多層二維材料的精確定位轉(zhuǎn)移及范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)的準(zhǔn)確制備,實(shí)現(xiàn)了低維材料轉(zhuǎn)移的精確可視化操作。本套轉(zhuǎn)移平臺(tái)由轉(zhuǎn)移臺(tái)模塊、樣品臺(tái)模塊、顯微觀測(cè)模塊結(jié)構(gòu)、溫控模塊等組成。該平臺(tái)是研究低維材料性質(zhì)、范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)構(gòu)中低溫物理特性、低維材料中表面界面物理性質(zhì)的有力工具。
產(chǎn)品特點(diǎn)
轉(zhuǎn)移臺(tái)模塊:包含XYZ三維移動(dòng)臺(tái)+旋轉(zhuǎn)臺(tái)+俯仰臺(tái);XY向:行程±6.5 mm,精度10 μm;Z向:行程±5 mm,精度0.5 μm;旋轉(zhuǎn)臺(tái):粗調(diào)360°,細(xì)調(diào)5°,精度1°;俯仰臺(tái):范圍±20°,最小讀數(shù)5′
樣品臺(tái)模塊:XYZ三維移動(dòng)臺(tái)+旋轉(zhuǎn)臺(tái)+帶真空吸附的加熱臺(tái);轉(zhuǎn)移臺(tái):精度低至10 μm;旋轉(zhuǎn)臺(tái):可360°旋轉(zhuǎn),精度1°;加熱臺(tái):室溫 ~ 250 ℃
顯微觀測(cè)模塊:金相顯微鏡:配置10X、20X、50X超長(zhǎng)焦物鏡;配置CMOS成像系統(tǒng)及相應(yīng)軟件,綜合放大倍數(shù)為576~2880倍;預(yù)留鉸鏈?zhǔn)诫p目觀察筒,支持配置10X目鏡;配置濾波片,支持調(diào)光;配備粗微調(diào)焦裝置,微調(diào)精度2 μm
溫控模塊:高精度PID程序控溫,溫度可達(dá)250 ℃,精度0.1 ℃,升溫速率2 ℃/s (at 150 ℃)
技術(shù)說(shuō)明
典型應(yīng)用:基于低維材料及其異質(zhì)結(jié)的晶體管、光電探測(cè)器、光伏器件等微納電子與光電子器件
臺(tái)體設(shè)計(jì):采用進(jìn)口精密機(jī)械臺(tái)體,結(jié)構(gòu)緊湊,支持放置于手套箱中
防震設(shè)計(jì):底座配備蜂窩內(nèi)核三層夾心防震光學(xué)平臺(tái)及隔振阻尼墊
結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):轉(zhuǎn)移臺(tái)及樣品臺(tái)支持面內(nèi)旋轉(zhuǎn),方便樣品進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)轉(zhuǎn)移
真空吸附:低噪泵體流量 30 L/min,保證樣品吸附
選配功能:樣品臺(tái)可集成Z軸電動(dòng)控制模塊,支持集成無(wú)線控制,手套箱外用按鍵調(diào)控樣品臺(tái)升降
應(yīng)用案例:
如皋市原野勘察機(jī)械廠
- ET3-CAL-GBS-隱形眼鏡測(cè)厚儀用標(biāo)準(zhǔn)量塊
- ET-3T-中心厚度測(cè)量?jī)x(溫控版)
- PF-60LS-隱形眼鏡用激光輪廓儀
- RX-3000 / RX-3100-隱形眼鏡折射率快測(cè)
- CLR-300-隱形眼鏡(接觸鏡)自動(dòng)折光儀
- 電阻絕緣耐壓匝間安規(guī)測(cè)量?jī)x
- 電機(jī)電阻測(cè)量?jī)x
- 安規(guī)測(cè)試儀用于電阻/絕緣/耐壓/安規(guī)檢
- 電機(jī)絕緣耐壓測(cè)量?jī)x
- JK-CNC400型劃片切割機(jī)型
- CIP-100電動(dòng)冷等靜壓機(jī)(CIP)
- CIP-380型小型冷等靜(CIP)壓機(jī)